高温条件被普遍用于材料合成和制造。它不仅能提供高活化能来驱动反应,而且可以大大加速动力学过程以实现快速、可量产的制造。特别地,例如高熵合金纳米粒子、陶瓷和高品质碳纤维,需要在超高温(>2000 K)的极端条件下制造。然而,当前的加热技术所需的设备体积庞大,只能提供整体(空间上)和稳态(时间上)的加热条件,因此无法胜任微/纳米级的合成与制造。例如,传统的电阻炉和微波加热方法只有有限的加热温度(≈1500 K)和升温速率(≈10–20 K min-1),这无法满足需要通过快速加热/冷却来构建精细纳米结构的微/纳米级制造。此外,此类方法只能进行批量加热,不具有局部热图案化能力,因此也难以应用于局部金属纳米粒子图案化的应用(例如,等离子体增强光电子的制造)。而传统的图案化技术,例如原子力显微光刻,不适用于在高温下工作,并且具有加工程序耗时和设备昂贵的缺点。现有的局部加热技术,例如热扫描探针光刻,尽管具有很高的空间分辨率,但其精度在很大程度上取决于材料和设备。此外,它们的最大可持续加热温度范围(700–1000 °C)有限且处理速度通常较低。因此,开发具有优异的加热和图案化能力的高精度高温加热源,对于热驱动微/纳米制造来说具有重要意义。目前该领域仍然面临着严峻的挑战。
文章来源:高分子科学前沿