| 离子注入属原子级表面加工技术。其改性效果明显、效率高、可控性和可操作性强、无污染等优点逐渐显出强大的生命力和优势。但离工业化、产业化道路还有一段距离，未来主要有以下发展方向： （1）从注入离子与金属表面相互作用的物理化学与冶金规律出发，探讨注入工艺参数对表面改性层结构和性能的影响规律； (2)提高改性层厚度，探讨注入层厚度增长动力学、热力学影响因素； （3）实现多元注入、高能注入、不同能量重叠注入。 (4)加大研究与开发力度，使离子注入这一新型表面改性技术多领域、多功能、多形式的应用。 |
本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜等材料，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。本系统主要由溅射室，离子束室，磁控溅射强磁靶、永磁靶各一个，直流溅射电源，射频溅射电源，样品转台，加热炉，离子枪，转靶（四个），泵抽系统，磁力传递送样机构，真空测量系统，气路系统，电控系统，水压报警系统和微观控制镀层系统等组成。
技术指标：
系统极限真空：1×10-4 Pa
RF射频电源：500 W
DC直流电源：500 W
加热控温电源：800 ℃