会社概要
| 名称 | 日本真空光学株式会社 | ||||||
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| 英文 | Optical Coatings Japan | ||||||
| 設立 | 1960年10月21日（昭和35年） | ||||||
| 役員 |
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| 資本金 | 21,000万円（授権資本28,000万円） | ||||||
| 決算月 | 12月 | ||||||
| 従業員 | 119名 | ||||||
| 事業内容 | 薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売 他社製品の販売及び開発受託業務 |
環境方針
事業活動、製品が与える環境影響を自覚し、汚染を予防しよう。
事業活動、製品に適用される環境関連の法令や協定を遵守しよう。
環境マネージメントシステムを活用し、継続的な改善をしよう。
本社・事業所・工場所在地
本社
| 住所 | 〒100-6530 東京都千代田区丸の内一丁目5番地1号 新丸の内ビルディング |
|---|---|
| TEL | 03-3218-7998 |
| FAX | 03-3218-7063 |
| info@ocj.co.jp |
御殿場工場
| 住所 | 〒412-0006 静岡県御殿場市中畑1413 |
|---|---|
| TEL | 0550-89-0230 |
| FAX | 0550-89-7124 |
沿革
| 1946年 | 昭和21年 | 神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。 |
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| 1952年 | 昭和27年 | 「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。 |
| 1960年 | 昭和35年 | 「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。 |
| 1961年 | 昭和36年 | 新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。 |
| 1963年 | 昭和38年 | 「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。 |
| 1964年 | 昭和39年 | 資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。 |
| 1969年 | 昭和44年 | 資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。 |
| 1971年 | 昭和46年 | 資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1977年 | 昭和52年 | 資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1979年 | 昭和54年 | 資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。 |
| 1980年 | 昭和55年 | 東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド･ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。 |
| 1983年 | 昭和58年 | 資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。 |
| 1985年 | 昭和60年 | 高周波プラズマ･イオン･プロセス技術を開発。 |
| 1986年 | 昭和61年 | 資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)｣を設立。 |
| 1987年 | 昭和62年 | 資本金7,000万円に増資。 |
| 1989年 | 平成元年 | 伊勢真空光学(株)の工場を増設。 |
| 1992年 | 平成04年 | AGCグループ傘下に入る。 |
| 1996年 | 平成08年 | 御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。 |
| 1998年 | 平成10年 | 伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。 |
| 2003年 | 平成15年 | タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。 |
| 2004年 | 平成16年 | ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。 |
| 2006年 | 平成18年 | ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。 |
| 2007年 | 平成19年 | 新技術センター＜クリーンルーム仕様＞竣工。 |