公司技术人员多年专注于物理气相沉积（PVD）技术（离子镀膜技术）的研究和开发。在创建后短短的两年时间里，开发出了ProPower和AS两个系列的计算机全自动控制PVD离子镀膜机。针对用户在实际使用设备时出现的问题和开发镀膜工艺过程中提出的要求，公司技术人员对设备各个部分进行了坚持不懈的改进和完善：增加和完善设备运行状态的实时检测，提高设备运行的稳定性、精确性和可靠性，提高设备的整体安全性和易维护性。2002年在意大利普罗泰克表面技术有限公司的协助和支持下，丹普公司终于使得ProPower系列离子镀膜机完全达到了欧洲的CE标准，获得了进入欧洲共同市场的准入证。最近两年，我司设备远销到印度、新加坡和巴西等新兴国家和地区，凭借完美的品质和良好的服务，受到客户的一致好评！

目前，丹普公司的镀膜设备以其下列鲜明的特点展现在国际国内市场上：

1.可以同时加装四种不同的金属或合金靶材，具有多种材料多层复合膜涂覆的能力；

2.在同一镀膜过程中充分灵活运用阴极电弧离化源和非平衡磁控溅射离子源（面对面闭合磁场设计），使它们发挥出各自的优势，达到最佳的真空离子镀膜的效果；

3.采用公司成熟的计算机自动控制技术。各种镀膜工艺均以菜单（数组）的方式加载，能够十分方便地在各种完全不同的镀膜工艺之间来回变换，保证镀膜过程的控制精确度、镀膜质量的稳定性和重复性。

4.从机械和电器的设计开始，整个设备的设计和生产严格按照欧洲的CE安全标准和规范执行。采用高质量进口关键元器件，最终确保设备运行的稳定性和可靠性。注重设备的易维护性，减少日常维护时间。

专利技术：

1.运用空分气离溅射技术的离子镀膜机（专利申请号：200410097124.2）

2.变频器控制的罗茨泵机组（专利申请号：02149382.0）

3.用于小尺寸工件的离子镀膜机（专利申请号：02129259.0）

专有技术

1.小圆形阴极电弧蒸发离化源-CAE

2.柱状阴极电弧蒸发离化源-SCAE

3.第四代阴极电弧蒸发离化源-4G-CAE

4.非平衡磁控溅射靶-MS

5.柱状磁控溅射靶-SMS

6.矩形气体离子源-GIS

7.智能的真空自动控制模式-VCM0/1/2/3/4

8.可靠的下转架系统-Turntable

9.智能挡板技术-Smart Shutter

从成立之初，丹普公司就提出了“随时准备满足您的特殊要求”的经营理念。我们的具体做法是：根据客户提出的关于膜层色泽、质量和用途等技术要求，有针对性地开发出相应的镀膜工艺，并确定出设备配备的具体要求。在接到设备订货后，丹普工程师全力投入，设计出专用的镀膜设备（整套机械部分），同时设计开发出计算机自动控制电路系统（控制柜/硬件）和编制计算机上下位机控制程序软件。这种以市场应用为导向的镀膜设备开发方式，将保证丹普公司设计制造出最适用最高效的计算机自动控制真空离子镀膜设备，满足市场的最终需求。

丹普公司就是通过以下具体步骤服务于国内外市场的：

1.与客户进行充分接触，了解客户的实际需要；为客户免费试镀样品，以使产品满足市场的最终要求，同时建立起批量镀制生产的完整工艺参数；

2.根据客户的需要，制定设备的具体的技术要求和总体方案；开发、设计、选型；定货、加工、采购；

3.（在公司车间）进行组合、安装、调试、检测和设备内部验收；

4.对客户的技术人员进行设备操作和维护培训，向客户操作人员传授所需的批量镀制生产的完整工艺参数，由客户进行初步设备验收（该过程也可在客户工厂最后完成）；

5.（在客户工厂）进行再次组合、安装、调试、检测和最终设备验收；并确保设备在客户工厂达到预期的批量生产能力和质量要求；

6) 提供长期的技术支持和售后服务。同时承诺长期支持和协助客户进行镀膜应用工艺技术的开发工作。

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