原创 10000+ 真空技术与设备网2017-12-12
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系统概述
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。
系统原理
通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。
系统配置
*自动化控制器: e-Control PLC，是控制系统的核心硬件平台。
*人机界面硬件: TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑，稳定可靠。
*人机界面软件: NETSCADA组态软件开发平台，提供真空镀膜机的控制和监视。
系统评价:
*提供多达99层一次成膜支援；
*自动倒幕翻转，可实现双面镀膜；
*支持Excle导入靶材、设备参数、工艺参数等；
*支持电子枪像素点数量自定义控制，实现靶材的无缝隙加热控制；
*针对不同加热段，采用不同蒸镀模式，保证熔料均温的同时，保证熔料效率；
*一键式启动，从启动到生产结束只需轻点一下鼠标，各种生产流程自动完成；
*批号式数据管理方案，实时自动保存生产信息，对生产数据有据可查；
*网络化方案，提供远程组网端口，轻松实现远程多系统集中控制和管理；
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